R-gen® 919：专为深色 UV 墨水设计的液态光引发剂｜解决碳黑遮蔽与固化瓶颈

深色 UV 系统的固化挑战：越黑越难固化，是视觉美学与制程稳定的拉锯战

在工业喷印、电子标记到高端包装等应用中，「黑得够深、黑得够均匀」不只是美感要求，更是实际的制程挑战。为了达到理想的遮蔽效果，黑色 UV 墨水与涂料中往往需添加大量碳黑。

然而，碳黑对紫外线具有极高的吸收能力，几乎会完全阻挡光线穿透涂层，使光引发剂无法被有效启动，直接导致固化不完全、表面残胶与黏性残留等问题，影响产品外观与后续加工质量，更可能引起客户投诉与退货风险。这些挑战在厚膜、高填料与深色配方中尤为严重，对配方稳定性、生产效率与质量控管形成三重压力。

传统光引发剂的限制：难分散、易沉淀、固化效率低

以 Chivacure® 169 为代表的传统固态光引发剂，在深色高填料系统中常因难以均匀分散于高浓度碳黑或颜料中，导致局部固化不足与沉淀现象，不仅降低了涂层的一致性与成品质量，也大幅削弱配方的储存稳定。对于使用喷墨印刷或精密涂布的应用而言，更可能引发喷头堵塞与生产中断，影响良率、产能与交货时程，进而冲击整体供应链效率。

开发深色 UV 系统时，需要考虑什么？

在开发深色 UV 系统时，配方设计的难度远高于一般彩色系统。为了确保产品在视觉效果、制程稳定与法规符合性上皆达到标准，配方工程师需同时掌握两大核心要素。首先，是颜料的选择与添加比例。深色配方多使用碳黑以达到高度遮蔽效果，但若添加过量，将大幅阻挡紫外线穿透，导致光引发剂难以启动反应，因此在遮蔽力与透光率之间找到最佳平衡点，成为配方优化的第一步。其次，光引发剂的溶解性与分散稳定性同样关键。若光引发剂无法完全溶解或在系统中分散不均，不仅会产生局部固化不良、降低表面质量，影响生产连续性与设备运行效率。

R-gen® 919：为深色系统量身打造的高性能光引发解方

1. 液态设计，突破传统溶解限制

在深色 UV 墨水与高填料涂料系统中，碳黑的高遮蔽性大幅阻碍光线穿透，加上传统光引发剂（如固态 Chivacure® 169）溶解度极低，导致配方稳定性差、固化不完全、甚至出现喷头堵塞，「过早沉淀」对于 UV 喷墨油墨等系统是无法容忍的。R-gen® 919 为完全液态设计，「彻底解决了固体对-吗啉基苯乙酮基光引发剂的超低溶解度问题」，能与大多数的丙烯酸树脂完全混溶，在配方中不会出现分离、析出、混浊、沉淀，即使在极高颜料含量下亦能保持分散均匀。

▶ 实验数据：

溶解度：与丙烯酸树脂完全混溶，水中溶解度仅 3.37 x10⁻³ g/L。
黏度与密度：210,000 cps（20°C）、1.088 g/cm³，适用于高精密涂布与喷墨系统。

2. 高遮蔽环境下仍具出色光固化效率，支持 Arc 与 LED 双光源

R-gen® 919 具备与传统高效光引发剂相当的光反应效率，即使在碳黑吸光严重的高遮蔽环境中，亦能稳定启动聚合反应，确保固化质量与系统可靠性。
• ARC 光源：适用于波段需求广泛的传统配方，但伴随较高热负载与环保限制。
• LED 光源：为当前主流技术，特别适用于数字印刷、低温固化与自动化制程。
实验数据显示，R-gen® 919 在 Arc 及 365 / 395 nm LED 光源下均可实现 10–20 m/min 的固化速度，展现高度光源兼容性与稳定的光化学反应效率。

特别适合应用于高速喷墨印刷、UV 涂布、精密电子组件标记等需兼顾产线速度与固化一致性的高效能制程。
在印刷电路板（PCB）制造流程中，每块板子上都需清楚标示组件型号、批次追溯码、客户标记或防伪图样。这些标记多透过 UV 墨水高速喷印完成，要求标记清晰、快速固化，R-gen® 919在深色、高填料墨水中仍能展现极佳的光反应效率，让固化过程迅速且完整，非常适合用于要求产能与精度并重的自动化制程。

▶ 实验数据：

固化速度：10–20 m/min（高遮蔽黑色配方）
紫外线吸收峰值：330–340 nm，对应 D-bulb 主输出波段，有效提升光能利用率

3. 高效率反应同时兼顾无气味表现

传统的对-吗啉基苯乙酮类（p-morpholinoacetophenone）光引发剂虽具备良好的光反应效率，但因其小分子结构，固化后容易产生明显的酯类或胺类气味。

R-gen® 919 在维持高反应效率的同时，固化后几乎无气味，尤其适用于气味敏感应用。

R-gen® 919 关键应用与解决方案

1. 黑色 UV 喷墨墨水

痛点：碳黑遮蔽性高，导致 UV 光难以穿透，传统光引发剂不易溶解，易沉淀造成喷头堵塞。

解法：R-gen® 919 采液态设计，与丙烯酸树脂兼容性高，可提升整体配方的均匀性与储存稳定性，显著降低沉淀与堵头风险，特别适用于高速喷印与高精度标记。

2. PCB UV 油墨

痛点：PCB 标记需高遮蔽墨水，但碳黑吸收紫外线造成固化不良；传统光引发剂分散差、易沉淀，影响印刷稳定性与制程良率。

解法：R-gen® 919 在高碳黑环境中仍具优异光反应效率，可快速固化且不产生残胶，液态结构大幅提升分散稳定性，避免堵头与沉淀，适用于电子级制程与高效生产需求。

3. 高填料遮蔽涂料

痛点：颜料浓度高时容易导致光引发剂固化效率低下，传统产品易析出或分层，影响涂层质量。

解法：R-gen® 919 可在高遮蔽条件下稳定启动固化反应，与多种树脂系统兼容，能有效提升涂膜的均匀性与可靠性。

4. 无 CMR 高安全配方

痛点：许多先进市场（如欧盟、北美）对于 CMR 1(b) 物质有限制，传统光引发剂可能不符规范。

解法：R-gen® 919 不含任何 CMR 1(b) 成分，为符合国际安全标准的配方开发提供理想选择，兼顾效率与法规合规性。

🔎小百科：
CMR 1B = 推定具有致癌/致突变/生殖毒性，属于高风险物质。
若一项原料被归类为 CMR 1B：在欧盟市场上会受到限制或禁用（特别是在食品接触、个人护理、儿童用品等应用），许多配方客户会明文要求「不得含 CMR 1B 物质」，REACH 法规与 RoHS、Ecolabel 认证中也会强调不得含 CMR 成分。

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